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镍靶块

钛阳极 文章分类金属靶块与箔材 添加时间2015-12-31 09:22:03 文章点击数3770
摘要:镍靶块,钛冷却管,钛阳极,钛电极,钛阴极,DSA钛阳极,钛阳极管,钛阳极网,钛阳极板,钛阳极丝,钛阳极带,MMO阳极,钛阳极组件,钛镀铂金阳极,钛阳极涂钌铱,钌铱网,钛钌网,水处理阳极网,铱钽涂层阳极,制氢钛阳极板,电解金属钛阳极板,电镀金属钛阳极,钛阳极网蓝,钛阳极棒,污水处理钛阳极,析氯钛阳极,析氧钛阳极,镍电极,镍板条,镍板槽,铝型材电泳着色用镍板,铝型材氧化着色用镍板条,镍板,镍棒,镍网,
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镍靶材、镍圆靶、高纯镍靶
 
1、名称:镍靶材、镍圆靶
 
2、牌号:N4,N6,UNSN02200
 
3、技术条件:符合GB/T4435-84,ASTM B160-93
 
4、用途:用于电子信息,半导体、平面显示器、溅射镀膜,化工等。
                                                                                                                 
 
纯度
  
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶
 
材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6, 8发展到12, 而布线宽
 
度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC
 
的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
   杂质含量
  
 靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含
 
量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特
 
殊要求。
   密度
  
为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅
 
影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材
 
的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
 
  晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
  
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比
 
晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均
 
匀。
 
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